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2026-07-31

2026縫隙計畫 KMFA:In-Between

黃冠慈、簡妤珊〈尚未翻譯的自然〉(攝影:林宏龍)
森屾創作(林雨祥、林佩欣、劉姿斈)〈迷霧林〉(攝影:林宏龍)
蔡旻翰〈內惟埤考 2026 — 臨時考掘站 001 號〉(攝影:林宏龍)
蔡寧(著陸方法⼯作室)〈相縫之處〉(攝影:林宏龍)
丁建中〈浮游 II〉(攝影:林宏龍)
簡莉芸、黃婕瑛〈落入⽔⾯:軌跡到餘響〉(攝影:林宏龍)
趙尉翔〈露銀計畫_縫隙中霧露均霑的交織地景〉(攝影:林宏龍)

「2026縫隙計畫 KMFA: In-Between」以高美館建築體為界定內外的皮膜,探討園區內長期存在卻鮮少被正視的邊界空間。展覽於高美館藝術+生態文化園區,邀請7組新銳藝術家以實驗性、探索性的環境藝術介入此邊界,將「縫隙」視為縫合機制,藝術不作裝飾或填補,而是在皮膜斷裂處建立新的介面關係,使館內外與藝術重新接合、彼此滲透。

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